DNP accelera lo sviluppo del processo di produzione di fotomaschere per litografia EUV adatta per dispositivi da 2 nm

- Partecipa al progetto R&S NEDO in qualità di appaltatore Rapidus -TOKYO: Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) ha iniziato a sviluppare il processo di fabbricazione di una fotomaschera impiegabile con il processo di litografia ultravioletta estrema (EUV) – il processo all’avanguardia per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttori – impiegabile per dispositivi logici a semiconduttore da 2 nanometri (10-9 metri). Inoltre DNP opererà da appaltatore fornendo la tecnologia appena sviluppata a Rapidus Corporation (Rapidus), che ha sede a Tokyo. Rapidus sta partecipando al Progetto di Ricerca e Sviluppo delle Infrastrutture potenziate per Sistemi di comunicazione e informatici post-5G avviati dalla NEDO (New Energy & Industrial Technology Development Organization). Fonte: Business Wire